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1、
2、
光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一，其作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步工序做好准备。
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3、
镍铁型荫罩的制造方法，镍铁合金带，荫罩板，荫罩框。
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4、
将所述光学掩模板上的全息图纹翻录，形成具有全息图纹的金属板；
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